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专利技术中和器
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技术应用

离子束镀膜

适用于多层纳米薄膜沉积，具有膜层致密度高、粘着力和牢固性好、材料不受限、无污染等特点。

离子束刻蚀

支持纳米线宽精度和多类型高深宽比图形刻蚀，不受材料类型限制，高准直刻蚀，刻蚀速率高，重复性好。

离子束抛光

适用于大面积、异型、特殊材料等加工对象的超高精度非接触式修形及抛光，精度可达亚纳米级，被誉为终极抛光。

离子束核心技术引领者

博顿光电致力于通过离子束核心技术研发及离子束设备的全自主可控，在高性能离子源与离子束微纳加工装备细分领域取得突破，从上游核心部件和关键装备环节解决精密光电行业的“卡脖子”问题，有力支撑我国航空航天、精密光学、光通信、新能源、半导体等战略性新兴产业的创新和发展升级，带动相关产业的能力与价值提升。
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  • 10项+
    获批政府科技项目
  • 10个
    产学研合作联盟
    实验室/试验中心
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    用离子源》团体标准
  • 200+
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  • Top 5
    离子源专利布局行业

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