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博顿玉衡系列

IBE离子束刻蚀机

采用全自主射频离子源的纳米级物理刻蚀设备解决方案，适用于多种材料的特殊结构形貌刻蚀，具有高准直、高精度、高可靠性。根据不同的应用场景，支持客户定制开发。
应用方向:

MEMS

薄膜电路

DOE衍射元器件

光栅与光波导

视频介绍

产品特点

  • 核心部件离子源自主可控

    01

  • 兼容IBE与RIBE，多工作模式

    02

  • 适用于多种材料的高精度刻蚀

    03

  • 良好的工艺能力与生产可靠性

    04

  • 刻蚀结构的底部及侧壁准直性好

    05

  • 高可靠性

    06

应用领域

光栅与光波导
MEMS
薄膜电路
DOE衍射元器件

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13318278059

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