射频离子源
辅助沉积
离子束刻蚀
离子束清洗
离子束溅射
产品特点
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离子束能量大
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离子束流精准可控
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热辐射低
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连续工作时间长
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适应多种工作气体
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对膜层无污染
产品优势
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全自主研发与制造,非拼装集成
独创多层栅网加工工艺,支持多种不同形状和尺寸
射频电源与控制器自主可控,确保最佳性能
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自适应匹配,一键超快启动和超高匹配效率
全自主研发离子束仿真模拟软件与离子束精准测量系统
多场景多领域工艺验证,性能指标优异