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博顿天璇RISE系列

Mini版射频离子源

博顿光电RISE系列-Mini版射频离子源是专门面向科研型试验场景设计的小型化专用离子源产品,适应于小型真空腔体内的离子束溅射、离子束刻蚀、离子束辅助沉积等工艺应用,可选配备5cm孔径的多层栅网,离子束能量范围在50-1200eV灵活可调,离子束流可达范围150mA,可选配具有专利技术的中空阴极中和器或射频中和器,支持超长工艺时间,热辐射低,无污染,使用和维护简易,满足精密光学、MEMS、半导体、新材料、基因工程等多应用领域的离子束微纳加工科研试验及工业化应用需求。
应用方向:

辅助沉积

离子束刻蚀

离子束清洗

离子束溅射

产品特点

  • 结构紧凑,适应性强

    适合各类科研试验用小型工作台 结构兼容性强

    01
  • 匹配多应用场景

    匹配多种工艺气体环境,可适用于离子束辅助镀膜、离子束溅射镀膜、离子束刻蚀及清洗等多种场景

    02
  • 自主可控,操作便利,维护简单

    部件与系统全自主可控,启动快速,操作灵活,硬件维护简单

    03
  • 高稳定可靠性

    全自主中和器技术,支持超长工艺,热辐射低,无污染,工艺重复性高

    04
  • 离子束能量大

    05
  • 离子束流范围

    06

技术参数

离子束微纳加工装备与工艺解决方案提供商

高性能离子源/离子束镀膜/离子束刻蚀/
离子束表面处理

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