
Mini版射频离子源
辅助沉积
离子束刻蚀
离子束清洗
离子束溅射
产品特点
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结构紧凑,适应性强
适合各类科研试验用小型工作台 结构兼容性强
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匹配多应用场景
匹配多种工艺气体环境,可适用于离子束辅助镀膜、离子束溅射镀膜、离子束刻蚀及清洗等多种场景
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自主可控,操作便利,维护简单
部件与系统全自主可控,启动快速,操作灵活,硬件维护简单
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高稳定可靠性
全自主中和器技术,支持超长工艺,热辐射低,无污染,工艺重复性高
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离子束能量大
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离子束流范围